Características:

Modelo multimalla.

Temperatura simulación 300 ºC presión 50 Pa

Actuaciones:

Dinámica de fluidos con herramientas CFD para simulación de flujo gaseoso en reactor CVD (Chemical Vapour Deposition) y diseño de dispositivos para su optimización.

Establecimiento de modelo numérico con FLUEN.

Diseño de dispositivos de mejora de flujo.

Optimización de flujo con difusores.

Modelo multimalla con mallador GAMBIT.

Resolución de mallado con FLUEN, solver segregado e inicialización multimalla.